Mise à l’échelle d’un procédé de pulvérisation cathodique magnétron en régime d’impulsions de haute puissance pour le dépôt de couches minces de nitrures métalliques

COÛT DU PROJET:

760 212 $

CONTRIBUTION DE PRIMA:

339 012 $

DÉTAILS DU PROJET:

La technologie HiPIMS (High Power Impulse Magnétron Sputtering) offre plusieurs avantages par rapport à la pulvérisation magnétron à courant continu, comme la formation d’un plasma dense avec une fraction d’ionisation élevée dans le flux des espèces pulvérisées, ce qui améliore considérablement les propriétés des couches déposées et permet le dépôt de nouveaux types de revêtements. La relation entre les propriétés des couches obtenues et la réactivité du plasma reste majoritairement inconnue et cela empêche un contrôle fin du procédé et sa mise à l’échelle. PLASMIONIQUE a une grande expertise dans le développement de réacteurs plasma pour le dépôt de couches minces tandis que SAFRAN SA a développé des recettes pour des revêtements aux propriétés uniques, notamment de nitrures de Tantale avec un réacteur industriel commercial de type HiPIMS. PLASMIONIQUE va pouvoir établir une coopération à long terme avec un acteur mondial majeur implanté au Québec et au Canada dans le domaine de l’aéronautique et étendre leur portfolio de réacteurs et procédés plasma.

SAFRAN SA bénéficiera de l’expertise de l’INRS et de PLASMIONIQUE dans le développement de réacteurs plasma et leur caractérisation avec des diagnostics avancés. En collaboration avec PLASMIONIQUE, SAFRAN SA pourra faire une mise à l’échelle de leur procédé et établir une nouvelle ligne de fabrication de produits manufactures. Ce projet permettra de développer une masse critique de connaissances au Québec pour le design de réacteurs HiPIMS (et de la génération de propriété intellectuelle) et la formation de PHQ qui pourraient être employés au Québec par les partenaires industriels.